Kinko选择兼顾卓越速度和精度的Beneq C2R™技术，凸显了XR眼镜AR波导大规模生产的行业趋势

亚洲领先的原始设计制造商（ODM）Kinko Optical Co., LTD.（简称Kinko）选择采用Beneq的C2R™等离子体增强空间原子层沉积（ALD）系统。此举将使Kinko能够为其合作伙伴大规模生产用于衍射波导的高折射率、低损耗间隙填充光学镀膜。

扩展现实（XR）行业正在迅速发展，其增长动力源于消费者对沉浸式增强现实（AR）体验的需求，例如XR眼镜等消费电子产品。近年来，全球领先的科技公司和原始设备制造商（OEM）纷纷在该领域投入巨资并进行创新。XR眼镜的核心是AR波导，其对于将数字图像无缝叠加到现实世界至关重要。为了获得最佳效果，先进的表面浮雕光栅（SRG+）和纳米压印光刻（NIL）是当前的主流技术平台，能够满足消费级应用在性能、生产和成本方面的要求。

然而，这些技术所创建的复杂3D纳米结构对传统的镀膜方法提出了重大挑战，传统方法往往无法达到所需的性能。因此，先进的光学镀膜对于提高效率、亮度和耐用性至关重要，同时还能实现可扩展的高性能制造。Beneq的C2R™技术满足了这些需求，能够提供卓越性能，并助力制造商达到新一代AR设备的严格标准。

“Kinko拥有超过45年的精密光学经验，始终引领着先进技术的应用，为全球科技合作伙伴打造高性能光学元件。”Kinko Optical Co., Ltd.首席技术官吴国华表示，“我们很早就意识到原子层沉积技术在卓越的镀膜质量、优异的保形性，以及能够提供先进光学器件所需的高折射率、低损耗材料方面的巨大潜力。借助Beneq的C2R™技术，我们现在能够实现性能与品质的完美平衡，将无与伦比的沉积速度与低温工艺相结合，真正实现大规模生产，同时保持复杂结构的精度。这使我们能够加速AR波导的商业化进程，并为下一代XR眼镜提供沉浸式、无缝体验。”

“借助Beneq的C2R™技术，我们现在能够实现性能与品质的完美平衡。这使我们能够加速AR波导的商业化进程，并为下一代XR眼镜赋能。” - Kinko Optical首席技术官吴国华博士

C2R™采用创新的旋转式空间原子层沉积设计，可将前驱体在空间中分离，从而实现比传统原子层沉积快100倍的沉积速率（高达2000 nm/h），同时保持卓越的均匀性和精度。它支持多种高折射率材料，包括Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂和多层堆叠结构，其可调折射率最高可达约2.61（TiO₂在448 nm波长处），光学损耗低至约3 dB/cm。

其他主要优势包括：低温加工（低至100°C），可兼容聚合物基底；可对复杂光栅进行共形间隙填充；以及零应力涂层，应力控制范围为1000 MPa至-200 MPa。原位宽带监测可确保实时优化，从而能够在不影响质量的前提下制造更厚的多层结构。这些能力与光学创新领域的节能、可持续制造和合规性等行业趋势高度契合。

此次合作将AR生态系统应用于超越XR眼镜的更广泛领域，包括车载平视显示器和企业培训工具等，从而加速了商业化和市场普及。

关于Kinko

Kinko于1980年6月成立于台中梧棲。作为一家专业的光学元件和光学镜头制造商，公司拥有玻璃研磨、塑胶射出、模造玻璃、精密模具加工四大产线。Kinko制造的光学镜头种类繁多，享誉全球，畅销世界各地。其产品广泛应用于数码单反相机、移动电话、物联网设备、汽车系统、游戏、监控、虚拟现实/增强现实/混合现实（VR/AR/MR）以及热成像相机等领域。Kinko将继续致力于开发高品质、高附加值的光学镜头。

关于Beneq

Beneq于1984年推出首款商用原子层沉积（ALD）设备，开创了工业级ALD技术的先河。如今，Beneq通过其产品组合推动ALD技术的应用和验证，其中包括用于特种半导体器件制造的Transform®、Transform® 300和Prodigy™；用于研发的TFS 200和TFS 500；创新型空间ALD平台C2R™以及用于卷对卷加工的Genesis。Beneq的系统支持从实验室到工厂的工艺创新，从而实现ALD技术在先进制造中的集成。Beneq总部位于芬兰埃斯波，业务遍及全球，致力于帮助客户扩展ALD解决方案，以推动半导体、光学及功能性镀膜领域的未来发展。

Beneq C2R™——全球速度最快的商用原子层沉积系统，每小时沉积速度高达2000纳米